G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/20 (2006.01)
Patent
CA 2233543
Blades pivotally attached together linked to push rods and inserted into an illumination energy or flux. The blades extend longitudinally along the length of a rectangular illumination field or slit used to image a reticle onto a photosensitive substrate. The push rods are coupled to a flexure or link pivotally connected to each end of a substantially rectangular blade. The corners of the rectangular blades have a radius providing a smooth transition between blades. A frame holds the push rods in place as the blades are moved into and out of the illumination energy or flux. The push rods may be adjusted by a screw or other equivalent devices or methods. The lateral or sideways forces resulting from the movement of the blades is compensated for by the flexures or links resulting in less stress being placed on the blades. Slots placed at pivot points in the blades may also be used to facilitate movement of the blades. The illumination energy of the rectangular illumination field or slot is adjusted to provide a uniform illumination energy. Also included is a method of adjusting the device to provide a predetermined exposure dose along the length of the illumination field as a function of line width. Different feature types may be imaged separately to optimize control over line width variation. This is particularly advantageous in a scanning lithography system used in the manufacture of semiconductors.
Selon la présente invention, des lames articulées les unes aux autres et couplées à des poussoirs sont placées sur le trajet d'un flux énergétique d'insolation. Lesdites lames s'étendent longitudinalement le long d'un fente rectangulaire d'insolation servant à projeter sur un substrat photosensible un masque. Les poussoirs sont raccordés à un organe flexible ou tringle articulé à chacune des extrémités des lames sensiblement rectangulaires dont les coins sont arrondis pour une transition en douceur d'une lame à l'autre. Un cadre maintient les poussoirs en place pendant que les lames sont placées sur le trajet du flux énergétique d'insolation puis retirées. Le réglage des poussoirs se fait au moyen de vis ou de tout autre mécanisme approprié. Les forces latérales résultant du déplacement des lames sont absorbées par les organes flexibles ou tringles afin de réduire les contraintes dans les lames. Des fentes peuvent également être ménagées aux points d'articulation des lames pour faciliter les mouvements de celles-ci. L'énergie d'insolation dirigée vers la fente d'insolation se règle pour donner un intensité uniforme. Cette invention concerne également une méthode de réglage du dispositif permettant de modifier l'intensité d'insolation le long de la fente d'insolation en fonction de l'épaisseur du trait à réaliser. Le dispositif permet de projeter différents types de masques pour optimiser l'uniformité d'épaisseur des traits. Cette caractéristique est particulièrement avantageuse dans un système de lithographie par faisceau d'électrons servant à la fabrication de semiconducteurs.
Govil Pradeep K.
Mccullough Andrew W.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
Svg Lithography Systems Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1885417