Alkaline aqueous hard surface cleaning compositions

C - Chemistry – Metallurgy – 11 – D

Patent

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C11D 3/20 (2006.01) C11D 1/75 (2006.01) C11D 3/02 (2006.01) C11D 3/30 (2006.01) C11D 3/33 (2006.01) C11D 3/43 (2006.01) C11D 11/00 (2006.01)

Patent

CA 2253309

Alkaline aqueous hard surface cleaning compositions which exhibit good cleaning efficacy against hardened dried or baked on greasy soil deposits. They are storage stable, and are not undesirably irritating to the skin or mucous tissues of the user. These compositions comprise in percent by weight (based on 100 % total weight of a composition): 0.01-0.85 wt.% nonionic surfactant compound based on an amine oxide; 0-1.5 wt.% chelating agent; 0.01- 2.5 wt.% caustic; 3.0-9.0 wt.% glycol ether solvent system comprising one glycol ether or glycol ether acetate solvent having a solubility in water of not more than 20 wt.%, and a second glycol ether or glycol ether acetate having a solubility of approximately 100 wt.%, wherein the ratio of the former to the latter is from 0.5:1 to 1.5:1; 0-5.0 wt.% of a water soluble amine containing organic compound, 0-2.5 wt.% soil anti-redeposition agent; 0-2.5 wt.% optional constituents. The compositions according to the invention contain no anionic or cationic type surfactant constituents, and include no more than 10 wt.% of volatile organic constituents (VOCs). Methods for the use of such cleaning compositions, and processes for their production are also disclosed.

L'invention concerne des compositions de nettoyage aqueuses alcalines pour surfaces dures, présentant une bonne efficacité de nettoyage en ce qui concerne des dépôts de salissures grasses durcies, séchées ou cuites. Ces compositions sont stables au stockage et n'irritent pas la peau ou les tissus muqueux de l'utilisateur. Elles comprennent, en pourcent en poids par rapport à 100 % en poids de composition: 0,01 à 0,85 % en poids d'un composé tensioactif non-ionique à base d'un oxyde d'amine; 0 à 15 % en poids d'un agent chélatant; 0.01 à 2,5 % en poids d'un caustique; 3,0 à 9,0 % en poids d'un système de solvants glycoléthers comprenant un solvant glycoléther ou acétate de glycoléther dont l'hydrosolubilité ne dépasse pas 20 % en poids, et un second glycoléther ou acétate de glycoléther dont la solubilité est d'approximativement 100 % en poids, le rapport du premier au second pouvant aller de 0,5:1 à 1,5:1; 0-5,0 % en poids d'une amine hydrosoluble contenant un composé organique; 0 à 2,5 % en poids d'un agent antiredéposition; et 0 à 2,5 % en poids de composants optionnels. Les compositions selon l'invention contiennent des tensioactifs du type anionique ou cationique et ne comprennent pas plus de 10 % en poids de composants organiques volatils. L'invention concerne également des procédés d'utilisation de telles compositions de nettoyage et des procédés permettant leur production.

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