C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 309/63 (2006.01) C07C 309/65 (2006.01) C07C 309/66 (2006.01) C07C 323/63 (2006.01) C07D 333/22 (2006.01) C07D 333/24 (2006.01) C07D 333/30 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01)
Patent
CA 2263254
The invention describes the use of oxime alkyl sulfonate compounds of formula (1), wherein R is naphthyl, (2) or (3); R0 is either an R1-X group or R2; X is a direct bond, an oxygen atom or a sulfur atom; R1 is hydrogen, C1-C4alkyl or a phenyl group which is unsubstituted or substituted by a substituent selected from the group consisting of chloro, bromo, C1-C4alkyl and C1-C4-alkyloxy; R2 is hydrogen or C1-C4alkyl; and R3 is straight-chain or branched C1-C12alkyl which is unsubstituted or substituted by one or more than one halogen atom; as photosentisitve acid generator in a chemically amplified photoresist which is developable in alkaline medium and which is sensitive to radiation at a wavelength of 340 to 390 nanometers and correspondingly composed positive and negative photoresists for the above-mentioned wavelength range.
Cette invention concerne des composés de sulfonate alkyle oxime qui correspondent à la formule (1) où R représente naphtyle, (2) ou (3). R¿0? représente soit un groupe R¿1?-X, soit R¿2?, tandis que X représente une liaison directe, un atome d'oxygène ou un atome de soufre. R¿1? représente hydrogène, alkyle C¿1?-C¿4? ou un groupe phényle qui peut éventuellement être substitué à l'aide d'un substituant choisi dans le groupe comprenant chloro, bromo, alkyle C¿1?-C¿4? et alkyloxy C¿1?-C¿4?. R¿2? représente hydrogène ou alkyle C¿1?-C¿4?, tandis que R¿3? représente un alkyle C¿1?-C¿12? à chaîne droite ou réticulé qui peut éventuellement être substitué par un ou plusieurs atomes halogènes. Ces composés sont utilisés en qualité de générateur d'acide photosensible dans une photorésine amplifiée chimiquement. Cette photorésine, qui peut être développée dans un milieu alcalin, est sensible aux rayonnements possédant une longueur d'onde de 340 à 390 nanomètres. Cette invention concerne également des photorésines négative et positive qui sont composées de cette manière, et qui correspondent à la plage de longueurs d'onde susmentionnée.
de Leo Christoph
Dietliker Kurt
Kunz Martin
Yamato Hitoshi
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1736917