C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 277/32 (2006.01) A01N 43/78 (2006.01) C07C 69/716 (2006.01) C07C 69/738 (2006.01) C07D 277/20 (2006.01) C07D 277/30 (2006.01) C07D 277/34 (2006.01) C07D 277/36 (2006.01) C07D 417/12 (2006.01)
Patent
CA 2065629
PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention a pour objet les produits de formule (I): Image (I) dans laquelle Ar représente un radical phényle non substitué ou substitué, Z représente un atome d'hydrogène, un atome de chlore, un radical trifluorométhyle, un radical alkyle, un radical alkyloxy ou un radical alkylthio (C1-6), R1 et R2 représentent un radical alkyle (C1-6) et la double liaison exocylique est en configuration (Z) ou (E), leur procédé de préparation et les intermédiaires de ce procédé, leur usage à titre de fongicides et les compositions les renfermant.
Brayer Jean-Louis
Demoute Jean-Pierre
Mourioux Gilles
Robic
Roussel-Uclaf
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1971788