Alpha-methylene-5-thiazolacetic acid derivatives, process...

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C - Chemistry, Metallurgy

07

D

C07D 277/20 (2006.01) A01N 43/78 (2006.01) C07C 69/738 (2006.01) C07C 323/62 (2006.01) C07D 277/30 (2006.01) C07D 277/32 (2006.01) C07D 317/60 (2006.01) C07D 417/06 (2006.01)

Patent

CA 2063635

PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention a pour objet les produits de formule (I) : Image (I) dans laquelle Ar représente un radical phényle non substitué ou substitué par un ou plusieurs radicaux identiques ou diffé- rents choisis parmi les halogène, méthylènedioxy, phényle, phénoxy, trifluorométhyle et les radicaux alkyle, alkyloxy ou alkylthio linéaires ou ramifiés (C1-6), Z représente un atome d'hydrogène, de chlore, un radical trifluorométhyle, alkyle, alkyloxy, alkylthio linéaires ou ramifiés (C1-6), R1 et R2 identiques ou différents représentent un radical alkyle linéaire ou ramifié (C1-6) et les doubles liaisons exocycli- ques sont indépendamment l'une de l'autre en configuration (Z) ou (E), leur procédé de préparation et les intermédiaires de ce procédé, leur usage comme fongicides et les composi- tions les renfermant.

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