C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 229/60 (2006.01) A61K 8/44 (2006.01) A61K 8/49 (2006.01) A61Q 17/04 (2006.01) C07C 227/18 (2006.01) C07D 239/60 (2006.01) C07D 239/62 (2006.01) C07D 309/38 (2006.01) C07D 311/56 (2006.01) C07D 319/04 (2006.01) C07D 319/06 (2006.01) C08K 5/17 (2006.01) C08L 101/00 (2006.01) C09K 3/00 (2006.01) C09K 15/24 (2006.01) C09K 15/30 (2006.01)
Patent
CA 2267108
Aminomethylene derivative represented by general formula (I) [wherein A represents a cyclic oxo group selected from the group consisting of general formulae (a), (b), (c), (d), and (e), R1, R2, R3, R4, and R5 each independently represent H, an alkyl group or the like; R6, R7, and R8 each independently represent an alkyl group or the like; R1 and R2 may combine with each other to form a tetramethylene group or the like; R7 and R8 may combine with each other to form a tetramethylene group or the like; R represents an alkyl group optionally containing OH or O; and n is an integer of 0 to 4], a process for preparing the same, and the use thereof. The derivatives have an excellent ultraviolet absorption ability and a high optical stability.
L'invention porte sur des dérivés d'aminoéthylène et absorbeurs de formule générale (I) dans laquelle A représente un groupe cyclique oxo choisi parmi les groupes de formule générale (a), (b), (c), (d) et (e) dans lesquels R?1¿, R?2¿, R?3¿, R?4¿ et R?5¿ représentent chacun indépendamment H, un groupe alkyle ou analogue; R?6¿, R?7¿ et R?8¿ représentent chacun indépendamment un groupe alkyle ou analogue; R?1¿ et R?2¿ peuvent se combiner l'un à l'autre pour former un groupe tétraméthylène ou analogue; R?7¿ et R?8¿ peuvent se combiner l'un à l'autre pour former un groupe tétraméthylène ou analogue; R représente un groupe alkyle renfermant facultativement OH ou O; et n est un entier de 0 à 4. L'invention porte également sur leur procédé de préparation et sur leurs utilisations. Ces dérivés présentent une excellente capacité d'absorption de l'UV et une grande stabilité optique.
Hukuoka Naohiko
Yasuda Heinosuke
Borden Ladner Gervais Llp
Chemipro Kasei Kaisha Limited
LandOfFree
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