C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 401/14 (2006.01) A61K 31/497 (2006.01) A61K 31/506 (2006.01) A61P 7/00 (2006.01) A61P 35/02 (2006.01) C07D 403/12 (2006.01) C07D 403/14 (2006.01) C07D 413/14 (2006.01)
Patent
CA 2751695
A compound represented by general formula [1] satisfying the following (I) or (II), or a pharmaceutical acceptable salt of the compound. (see formula 1) (I) X is CH or N; R1 is a halogen atom,; and R2 is H, a halogen atom, CN, [2], [3], [8], [9], an -O-alkyl, an -O-(saturated ring), etc. [2]: -C(R C)(R D)(R E) {R C to R E each are H, an alkyl, etc.} [3]: -N(R F)(R G) {R F and R G each are H, OH, amino, a (hetero)aryl, etc.} [8]: -C(=O)R L {R L is an alkyl, OH, an alkoxy, amino, etc.} [9]: a (substituted)phenyl; (II) X is >C-C(=O)R B {R B is a(substituted)amino, an alkoxy, OH, etc.}; R1 is a halogen atom; R2 is H; R3 is H or OH; and R3 and R4 each are H or an alkyl.
L'invention porte sur un composé représenté par la formule générale [1] satisfaisant les formules suivantes (I) ou (II), ou sur un sel de qualité pharmaceutique du composé. (I) X représente CH ou N ; R1 représente un atome d'halogène, et R2 représente H, un atome d'halogène, CN, [2], [3], [8], [9], un O-alkyle, un O-(cycle saturé), etc. [2] : -C(RC)(RD)(RE) {RC à RE représentent chacun H, un alkyle, etc. [3] : -N(RF)(RG) {RF et RG représentent chacun H, OH, amino, un (hétéro)aryle, etc. [8] : -C(=O)RL {RL représente un alkyle, OH, un alcoxy, amino, etc. [9] : un phényle (substitué) (II) X représente > C-C(=O)RB {RB représente un amino (substitué), un alcoxy, OH, etc. ; R1 représente un atome d'halogène ; R2 représente H ; R3 représente H ou OH ; et R4 et R5 représentent chacun H ou un alkyle.
Asaki Tetsuo
Fujihara Hidetaka
Hori Katsutoshi
Naito Haruna
Fetherstonhaugh & Co.
Nippon Shinyaku Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1913401