G - Physics – 08 – B
Patent
G - Physics
08
B
G08B 13/24 (2006.01) H01F 10/13 (2006.01) H01L 41/20 (2006.01)
Patent
CA 2689534
The invention may include a novel composition for and/or processing of an active element for an EAS marker that achieves the same or better performance of existing materials while solving the problem of higher cost. It may include a magnetomechanical active element formed by planar strip of amorphous magnetostrictive alloy having a composition FeaNib M c wherein a+b+c = 100, wherein a is in a range of 40-70 weight percent, b is in a range of 10-50 weight percent, and c is in a range of 10-50 weight percent, and where M is the balance of remaining elements; wherein the magnetomechanical active element is subject to batch annealing in the presence of a magnetic field that is substantially transverse to the ribbon length of the element and at a temperature of less than about 300° C. and for a time greater than at least about one hour.
L'invention peut contenir une composition novatrice pour et/ou traitant un élément actif pour marqueur EAS présentant les mêmes performances, voire des performances meilleures que les matériaux existants tout en évitant les problèmes de surcoût. Il peut s'agir d'un élément actif magnétomécanique constitué d'une bande plane d'alliage magnétostrictif amorphe présentant une composition FeaNibMc où a+b+c = 100, a étant dans une plage de 40-70 pour cent en poids, b étantt dans une plage de 10-50 pour cent en poids, et c étant dans une plage de 10-50 pour cent en poids, et M étant le solde d'éléments restants; l'élément actif magnétomécanique étant soumis à un recuit en vrac en présence d'un champ magnétique qui est sensiblement transversal à la longueur de ruban de l'élément et à une température inférieure à environ 300°C au moins pendant une heure environ.
China Chaitali
Coffey Kevin R.
Lian Ming-Ren
Liu Nen-Chin
Sensormatic Electronics Llc
Sensormatic Electronics Corporation
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1694584