An evaporation system for gas jet deposition on thin film...

C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C

Patent

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C23C 16/50 (2006.01) C23C 14/22 (2006.01) C23C 16/448 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/458 (2006.01) C23C 16/513 (2006.01) C23C 16/56 (2006.01) H01L 21/20 (2006.01) H01L 21/285 (2006.01) H01L 21/31 (2006.01)

Patent

CA 2107242

Thin films are deposited by generating film deposition vapors from solid film precursor materials including those in the form of powder in a crucible (42) or wires (38), positioned inside the cavity (22) of one or more nozzles (20), and carrying the vapors in a low pressure supersonic jet of inert gas to the surface (26) of a prepared substrate (28) where the vapors deposit to form a thin film, A microwave discharge plasma may be generated in the cavity (132) of one or more additional nozzles (130) into which a reactive gas is introduced, to form a supersonic jet of activated reactive gas carried in an inert gas. Motion of a substrate (82) relative to the nozzles (20, 130) permits a film formed from the solid precursor materials to be treated with the activated reactive gas to immediately convert the film into an oxide or nitride material.

On dépose des couches minces en produisant des vapeurs pour dépôt de couches à partir de matériaux solides précurseurs de couches, y compris ceux sous forme de poudre, dans un creuset (42) ou sur des fils métalliques (38) situés à l'intérieur de la cavité (22) d'une ou plusieurs tuyères (20), et en transportant la vapeur dans un jet supersonique et à faible pression de gaz inerte jusqu'à la surface (26) d'un substrat préparé (28), où la vapeur se dépose pour former une couche mince. Un plasma de décharge d'hyperfréquence peut être généré dans la cavité (132) d'une ou plusieurs tuyères additonnelles (130) dans lesquelles un gaz réactif est introduit, afin de former un jet supersonique de gaz réactif activé porté par un gaz inerte. Le mouvement d'un substrat (82) par rapport aux tuyères (20, 130) permet à une couche formée avec les matériaux précurseurs solides d'être traitée au moyen du gaz réactif activé de façon à être immédiatement convertie en un matériau oxydé ou nitruré.

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