C - Chemistry – Metallurgy – 07 – K
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
K
C07K 14/00 (2006.01) C07K 19/00 (2006.01) C12N 1/00 (2006.01) C12N 1/21 (2006.01) C12N 5/10 (2006.01) C12N 15/62 (2006.01) C12N 15/63 (2006.01) C12N 15/70 (2006.01) C12P 21/02 (2006.01)
Patent
CA 2567501
Provided is a plasmid-based expression system that can be used to enhance production of C-repeat region (CRR) by Streptococcus gordonii, other Strpetococcus strains, as well as other bacteria. This system utilizes the gtfG promoter and secretion-signal sequence in combination with the positive regulatory gene, rgg, to drive the synthesis and secretion of CRR from the resident Escherichia. coli or Streptococcus shuttle plasmid, pVA838. This plasmid isolated from E. coli was readily introduced into S. gordonii and under optimal conditions led to a nearly 10-fold increase in the concentration of secreted protein relative to production by surface protein expression system (SPEX).
La présente invention concerne un système d'expression à base plasmidique qui peut être utilisé pour améliorer la production d'une région à répétition C (CRR) par Streptococcus gordonii, d'autres souches Streptococcus et d'autres bactéries. Ce système utilise le promoteur gtfG et une séquence de signaux de sécrétion combinés au gène de régulation positive, rgg, afin de commander la synthèse et la sécrétion de CRR à partir du plasmide navette de Escherichia. coli ou Streptococcus résident, pVA838. Ce plasmide isolé de E. coli a facilement été introduit dans S. gordonii et a conduit, dans des conditions optimales, à une augmentation d'environ 10 fois de la concentration de protéine sécrétée par rapport à la production par un système d'expression de protéine de surface (SPEX).
Hruby Dennis E.
Jones Kevin F.
Warren Travis K.
Siga Technologies Inc.
Sim & Mcburney
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2015204