Anionic surfactants, their preparation and make-up

Details Anionic surfactants, their preparation and make-up Anionic surfactants, their preparation and make-up

C - Chemistry, Metallurgy

07

C

167/282, 167/300

C07C 43/13 (2006.01) A61K 8/14 (2006.01) A61K 8/37 (2006.01) A61K 8/39 (2006.01) A61K 8/86 (2006.01) A61K 9/127 (2006.01) A61Q 1/00 (2006.01) A61Q 1/14 (2006.01) A61Q 17/04 (2006.01) A61Q 19/00 (2006.01) C07C 41/03 (2006.01) C07C 43/11 (2006.01) C07C 43/178 (2006.01) C08G 65/18 (2006.01) C08G 65/24 (2006.01) C08G 65/334 (2006.01) C11D 1/825 (2006.01) C11D 1/72 (2006.01)

Patent

CA 1183168

ABREGE DESCRIPTIF L'invention concerne de nouveaux tensio-actifs non- ioniques, répondant à la formule générale: Image (I) dans laquelle R désigne un radical aliphatique linéaire ou ra ramifié, saturé ou insaturé comportant 4 à 20 atomes de carbone; R1 désigne (1) un radical alcoyle de préférence linéaire, (2) un radical alcoxyméthyle linéaire ou ramifié, ou (3) un radical alcényloxyméthyle, les parties alcoyle ou alcényle de ces radicaux comportant de 4 à 20 atomes de carbone; Z désigne un enchaînement polyéther répondant à la formule: Image II dans laquelle n désigne une valeur statistique moyenne de 2 à 20 at A désigne: a) le groupement OH, b) le groupement Image dans lequel u désigne 0 ou 1, ou c) le groupement Image dans lequel u désigne 0 ou 1, les radicaux R et R1 comportant au total entre 12 et 38 atomes de carbone, ainsi que les dérivés des composés de formule (I) ci-dessus résultant de la réaction d'oxyde d'éthylène ou de glycidol avec un ou plusieurs des groupements OH des substi- tuants représentés par A. Les composés selon l'invention peuvent notamment être utilisés comme tensio-actif de base ou comme additif dans des compositions cosmétiques ou pharmaceuti- ques.

360516

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