Anti-scatter grids and collimator designs, and their motion,...

G - Physics – 21 – K

Patent

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Details

G21K 1/06 (2006.01) G01T 1/00 (2006.01) G01T 7/00 (2006.01) G21K 1/00 (2006.01) G21K 1/02 (2006.01) G21K 4/00 (2006.01)

Patent

CA 2437454

Grids (30) and collimators, for use with electromagnetic energy emitting devices (61), include at least a metal layer that is formed, for example, by electroplating/electroforming or casting. The metal layer includes top and bottom surfaces, and a plurality of solid integrated walls (32). Each of the solid integrated walls extends from the top to bottom surface and has a plurality of side surfaces. The side surfaces of the solid integrated walls are arranged to define a plurality of openings (31) extending entirely through the layer. At least some of the walls (32) also can include projections extending into the respective openings formed by the walls (32). The projections can be of various shapes and sizes, and are arranged so that a total amount of wall material intersected by a line propagating in a direction along an edge of the grid (30) is substantially the same as another total amount of wall material intersected by another line propagating in another direction substantially parallel to the edge of the grid (30) at any distance from the edge. Methods to fabricate these grids (30) using copper, lead, nickel, gold, any other electroplating/electroforming materials or low melting temperature metals are described.

Des grilles (30) et des collimateurs utilisés avec des dispositifs (61) d'émission d'énergie électromagnétique, comprennent au moins une couche métallique formée, par exemple, par électrodéposition/électroformage ou coulage. Ladite couche métallique comprend des surfaces supérieure et inférieure, et plusieurs parois intégrées (32) solides. Chacune desdites parois s'étend de la surface supérieure vers la surface inférieure et possède plusieurs surfaces latérales. Les surfaces latérales des parois intégrées (32) solides sont disposées de manière à définir plusieurs ouvertures (31) qui s'étendent complètement à travers la couche. Au moins quelques unes des parois peuvent aussi comprendre des projections s'étendant dans les ouvertures respectives formées par les parois (32). Ces projections peuvent avoir des formes et tailles diverses, et sont disposées de telle manière qu'une quantité totale de matière de parois croisée par une ligne se propageant dans un sens le long d'un bord de la grille est pratiquement la même qu'une autre quantité totale de matière de parois croisée par une autre ligne se propageant dans un autre sens pratiquement parallèle au bord de la grille à une distance quelconque dudit bord. L'invention concerne également des procédés de fabrication de ces grilles (30) à l'aide de cuivre, de plomb, de nickel, d'or, et de tout autre matériau d'électrodéposition/électroformage ou de matériaux fondants à basse température.

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