Apparatus and method for coating a substrate

Details Apparatus and method for coating a substrate Apparatus and method for coating a substrate

C - Chemistry, Metallurgy

23

C

C23C 14/24 (2006.01) C23C 14/22 (2006.01) C23C 14/26 (2006.01)

Patent

CA 2605147

The invention relates to an apparatus for coating a substrate using physical vapour deposition, comprising a vacuum chamber wherein a coil (1) is placed for keeping an amount of conductive material (10) in levitation and for heating and evaporating that material, using a varying electric current in the coil, and wherein means (3) are placed in the coil to isolate the coil from the levitated material . According to the invention, the apparatus is characterised in that the isolating means are part of a container (2) made of non-conductive material, the container having one or more openings (5) for guiding evaporated conductive material to the substrate to be coated. The invention relates to a method for coating a substrate using physical vapour deposition.

La présente invention concerne un dispositif de revêtement d'un substrat par déposition en phase gazeuse par procédé physique, comprenant une chambre à vide, où est placée une bobine (1) pour maintenir une quantité de matériau conducteur (10) en lévitation et pour chauffer et évaporer ce matériau en faisant passer un courant électrique variable dans la bobine, et où des moyens (3) sont placés dans la bobine pour l'isoler du matériau en lévitation. Selon l'invention, le dispositif est caractérisé en ce que les moyens d'isolation font partie d'un récipient (2) en matériau non conducteur, le récipient comportant une ou plusieurs ouvertures (5) pour guider le matériau conducteur évaporé vers le substrat à revêtir. Le présente invention concerne un procédé de revêtement d'un substrat par déposition en phase gazeuse par procédé physique.

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