C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/00 (2006.01) B22F 1/00 (2006.01) C09C 1/00 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01)
Patent
CA 2332900
An apparatus and method technique for producing plane-parallel flakes is disclosed. In a preferred embodiment, the present invention is realized through a multi-chamber apparatus for producing plane-parallel flakes from layers vapor deposited in vacuum on an endlessly circulating substrate. The present invention includes the sequential steps of: vapor deposition of a separating agent layer in high vacuum on the endlessly circulating substrate; vapor deposition of one or more layers of metal, oxides, fluoride, and nitrides in high vacuum on the separating agent layer; and stripping the vapor deposited layers from the endlessly circulating substrate under low vacuum. The vapor deposited layers are subsequently present in a separate vacuum stage separated from the vapor deposition chamber by dynamic locks as a suspension of fine flakes in a mixture of solvent and separating agent. The suspension may continuously or intermittently be transferred out of the separate vacuum stage for further processing. The solvent may be water in a vacuum environment of more than 20 mbar or secondary or tertiary alcohols at more than 0.05 mbar.
L'invention concerne un appareil et un processus technique de production de paillettes parallèles planes. Dans un mode de réalisation préféré, on utilise un appareil multi-chambres permettant de produire de telles paillettes à partir de couches déposées par évaporation sous vide sur un substrat circulant en continu. Le procédé, selon l'invention, comporte notamment les étapes séquentielles suivantes : dépôt par évaporation d'une couche d'agent séparateur sous vide poussé sur un substrat circulant en continu ; dépôt par évaporation d'au moins une couche de métal, d'oxydes, de fluorures et de nitrures sous vide poussé sur la couche d'agent séparateur ; et retrait des couches, déposées par évaporation, du substrat circulant en continu sous vide peu poussé. Ces couches sont par la suite présentes dans un étage sous vide, séparé de la chambre de dépôt par évaporation par des sas dynamiques sous la forme d'une suspension de paillettes fines dans un mélange de solvant et d'agent séparateur. La suspension peut continuellement ou par intermittence être transférée hors de l'étage sous vide séparé pour un traitement ultérieur. Le solvant peut être de l'eau dans un milieu sous vide supérieur à 20 mbars, ou dans des alcools secondaires ou tertiaires à plus de 0,05 mbar.
Ciba Speciality Chemicals Holding Inc.
Finlayson & Singlehurst
Weinert Vakuum Verfahrenstechnik Gmbh
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1740935