G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/30 (2006.01) G03F 7/42 (2006.01) B44C 1/22 (2006.01)
Patent
CA 2268903
In a developing, etching and stripping apparatus, photoresist developing and stripping chemicals are drawn off into separate circulatory paths in each of which they are pumped through a heat exchanger (52), a series of tangential filters (60, 62, 64, 66), an ultraviolet contactor (56) and a collection tank (38). Permeate from the filters is returned to the developing (14) or stripping (22) stage, and solutions with high concentrations of solids are removed from the collection tanks for disposal. In regeneration of developer solution based on sodium or potassium carbonate, carbon dioxide gas is added along with an alkali metal hydroxide to maintain a suitable pH and carbonate/bicarbonate ratio.
Dans un appareil de développement, de gravure et de décapage, des produits chimiques de développement et de décapage de résine photosensible sont retirés par des canaux de circulation séparés, à l'intérieur de chacun desquels ils sont pompés à travers un échangeur thermique (52), une série de filtres tangentiels (60, 62, 64, 66), un contacteur (56) à ultraviolet, et un réservoir collecteur (38). Un perméat provenant des filtres est retourné vers la phase de développement (14) ou de décapage (22), et des solutions à concentration élevée de solides sont retirées des réservoirs collecteurs en vue d'une élimination. Au cours de la régénération de solution de développement à base de carbonate de sodium ou de potassium, on ajoute un dioxyde de carbone avec un hydroxyde métallique alcalin, en vue de maintenir un pH et un rapport carbonate/ bicarbonate adéquats.
Atotech Deutschland Gmbh
Jablonsky Julius James
Ridout & Maybee Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1944559