C - Chemistry – Metallurgy – 30 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
30
B
C30B 29/04 (2006.01) C23C 16/27 (2006.01) C23C 16/511 (2006.01) H01J 37/32 (2006.01)
Patent
CA 2073645
PRECIS DE LA DIVULGATION: Dispositif de dépôt de diamant sur substrat, assisté par plasma microonde, qui comporte: une chambre de dépôt dont une portion est placée dans un guide d'ondes comprenant deux zones, l'une, étant une zone de formation du plasma située à l'intérieur du guide d'ondes, et l'autre, étant une zone de dépôt du diamant située hors du guide d'ondes, des moyens permettant de former un plasma stable dans la zone de dépôt, de manière à augmenter considérablement la surface de substrat à traiter. Et un procédé de dépôt de diamant utilisant le dispositif selon l'invention. L'invention trouve une application pour le dépôt sur pièces monobloc de grande taille.
Bou Pierre
Coulon Michel
Moisan Michel
Quilgars Alain
Vandenbulcke Lionel
Pechiney Recherche (groupement D'interet Economique Regi Par L'o
Robic
LandOfFree
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