Apparatus for distributing gas and liquid during concurrent...

B - Operations – Transporting – 01 – D

Patent

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B01D 24/24 (2006.01) B01D 24/46 (2006.01)

Patent

CA 2262626

A concurrent backwash distribution apparatus for a filter (11) having a filter tank (13) and a plurality of underdrain laterals (24) includes a baffle (10) positioned in a common main conduit (12) to define a secondary flume (14) between the baffle (10) and the underdrain laterals (24). The secondary flume (14) is in fluid communication with common main conduit (12) and the underdrain laterals (24). The baffle (10) has at least one flume liquid metering orifice (16) located adjacent a bottom of the baffle (10) so that it is below a gas liquid interface (23) in the secondary flume (14) during concurrent gas/liquid backwash operations. A flow distribution plate (18) is positioned between the secondary flume (14) and the underdrain laterals (24), the flow distribution plate (18) having at least one liquid metering orifice (22) and at least one gas metering orifice (20). The baffle (10) may be an upstanding partition (26) or an L-shaped partition (30). The baffle (10) creates adequate room for low velocity flow of backwash liquid in flat bottom flumes, while at the same time providing clearance for flow of backwash gas.

Un appareil de distribution à lavage à contre-courant pour un filtre (11) doté d'un réservoir de filtration (13) et de plusieurs ramifications de drainage souterrain (24), comporte un déflecteur (10) placé dans un conduit principal commun (12) de sorte qu'un canal de jaugeage secondaire (14) soit défini entre le déflecteur (10) et les ramifications de drainage souterrain (24). Le canal de jaugeage secondaire (14) est en communication fluidique avec le conduit principal commun (12) et les ramifications (24). Le déflecteur (10) comporte au moins un orifice de dosage (16) du liquide de la ramification, adjacent au fond du déflecteur (10) de sorte qu'il se trouve au-dessous d'une interface liquide/gaz (23) dans le canal de jaugeage secondaire (14) pendant les opération de lavage à contre-courant gaz/liquide simultanées. Une plaque de répartition du flux (18) est placée entre le canal de jaugeage secondaire (14) et les ramifications de drainage souterrain (24), la plaque de répartition du flux (18) ayant au moins un orifice de dosage de liquide (22) et au moins un orifice de dosage du gaz (22). Le déflecteur (10) peut être une cloison verticale (26) ou une cloison en L (30). Le déflecteur (10) crée un espace adéquat pour un flux à faible vitesse de liquide de lavage à contre-courant dans les canaux de jaugeage à fond plat, et également un espace pour l'écoulement du gaz de lavage à contre-courant.

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