C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
167/300, 260/474
C07C 65/32 (2006.01) C07C 33/26 (2006.01) C07C 45/30 (2006.01) C07C 49/86 (2006.01) C07C 59/84 (2006.01) C07C 65/105 (2006.01) C07C 65/11 (2006.01) C07C 65/17 (2006.01) C07C 65/34 (2006.01) C07C 65/36 (2006.01) C07C 65/40 (2006.01) C07C 69/76 (2006.01)
Patent
CA 1298292
PRECIS DE LA DIVULGATION: Composés aromatiques de formule générale (I): (I) Image dans laquelle n est 0 ou 1;1) lorsque n=1, R'représente H ou alkoxy C1 à C4, R" représente H, OH, acyloxy C1 à C4, alkoxy C1 à C4 ou amino, ou R' et R", pris ensemble, forment un radical oxo, méthano ou hydroxy-imino, R1 représente -CH2OH ou -COR10, R10 étant H, OR11 ou Image R11 étant H, alkyle C1 à C20, monohydroxyalkyle, polyhydroxyalkyle, aryle ou aralkyle ou un reste d'un sucre ou Image p étant 1, 2 ou 3 et r' et r" représentant H, alkyle inférieur, monohydroxyalkyle, polyhydroxyalkyle, aryle ou benzyle, un reste d'aminoacide ou de sucre aminé ou pris ensemble forment un hétérocycle, R2, R3, R4, R5 et R6 repré- sentent H, -OH, alkyle C1 à C12, cycloalkyle, cycloalcé- nyle, phényle ou un radical de formule: (i) -X-C6H5 (ii) -X-R12 ou (iii) -NHCOR13 X étant -O-, -S-, -SO-, -SO2- ou -OCO-, R12 étant alkyle ou fluoroalkyle, et R13 étant alkyle ou phényle, au moins un des radicaux R2 à R6 étant différent de H, R7, R8, R9 représentent H ou méthyle, R7 et R9, pris ensemble, peuvent former, avec le noyau benzénique, un cycle naphtalénique, à l'exclusion des composés de formule (I) dans laquelle R7 est H ou méthyle lorsque R4 représente méthyle, OH ou un radical -OCH3 quand R2, R3, R5 et R6 représentent H ou quand R6 représente hydroxyle; 2) lorsque n=0 R' représente H, R" représente OH ou R' et R", pris ensemble, forment un radical oxo, R1 représente -CH2OH, -CH=O ou -COOR11, R11 étant H ou alkyle, R2 et R3 représentent H ou alkyle C3 à C6, R5 représente (i)soit cycloalkyle ou alkyle de C3 à C6 et dans ce cas, R4 représente alkyle, hydroxy ou alkoxy, (ii) soit H et dans ce cas, R4 représente alkyle, R6 représente H, et R7 représente H ou méthyle, à l'exclusion des composés de formule (I) dans laquelle R4 représente le radical OH et R3 et R5 représentent un radical tertiobutyle, et les sels desdits composés aromatiques ainsi que leurs isomères optiques et géométriques. Ces composés trouvent une application en cosmétique.
533956
Lang Gerard
Maignan Jean
Malle Gerard
Restle Serge
Shroot Braham
L'oreal
Robic
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