C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/54 (2006.01) G01N 21/31 (2006.01)
Patent
CA 2200667
A metal vapor 12 passing through a guide duct 13 from a vapor source 10 to a steel strip 1 is sampled through a takeoff pipe 14 to a measuring chamber 15. The metal vapor is irradiated with a measuring beam 20 in the chamber 15, to detect the absorbance of luminous energy in the metal vapor. The detected value of absorbance is used for the quantitative calculation of the metal vapor 12 passing through the guide duct 13, and the opening ratio of a shutter 17provided in the guide duct 13 is adjusted on the basis of the calculation result so as to control the flow amount of the metal vapor 12 passing through the guide duct 13. In the case where a large amount of the metal vapor 12 passes through the guide duct 13, the amount of the metal vapor 12 reaching the measuring beam 20 is reduced by partially discharging the metal vapor 12 from the measuring chamber 15. Since the deposition amount of a plating metal is directly controlled in response to the amount of the metal vapor12 passing through the guide duct 13, the amount of a deposited plating layer is controlled with high accuracy and with a quick response time in a continuous vapor deposition coating line.
Une vapeur métallique 12 passant à travers une conduite d'alimentation 13 depuis une source de vapeur 10 jusqu'à une bande d'acier 1 est échantillonnée par un tube de prélèvement 14 menant à une chambre mesureuse 15. La vapeur métallique est irradiée avec un faisceau mesureur 20 dans la chambre mesureuse 15, pour mesurer la densité optique (absorbance d'énergie lumineuse) de la vapeur métallique. La valeur de densité optique mesurée est utilisée dans les calculs visant à établir la quantité de vapeur métallique 12 passant dans la conduite d'alimentation 13, et le degré d'ouverture d'un obturateur 17 installé dans la conduite d'alimentation 13 est ajusté en fonction des résultats du calcul de manière à régler le débit de vapeur métallique 12 passant dans la conduite d'alimentation 13. Dans le cas où une grande quantité de vapeur métallique 12 passe dans la conduite d'alimentation 13, la quantité de vapeur métallique 12 atteignant le faisceau de mesure 20 est réduite en évacuant partiellement la vapeur métallique 12 de la chambre mesureuse 15. Comme la quantité de métal de placage qui se dépose est réglée directement en réaction à la quantité de vapeur métallique 12 passant dans la conduite d'alimentation 13, la quantité de métal de placage déposée est réglée avec une grande précision et avec un temps de réaction très court dans une chaîne de métallisation par dépôt sous vide en continu.
Fukui Yasushi
Saito Minoru
Tanaka Hiroshi
Nisshin Steel Co. Ltd.
Ridout & Maybee Llp
LandOfFree
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