Automated system for use in the determination of subsurface...

G - Physics – 01 – N

Patent

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G01N 23/20 (2006.01)

Patent

CA 2195710

The present invention is directed to an automated system for use in the determination of subsurface material properties of a specimen by X-ray diffraction, comprising a specimen support, a rotatable mounting and aligning fixture for mounting the specimen support onto the shaft of a motor driven positioning system, a chemical holding tank having a first half section having a chemical holding chamber for providing a chemical bath for removing surface material from the specimen and a second half section for providing a position for permitting X-ray diffraction measurement of the specimen, a chemical reservoir in fluid communication with the chemical holding chamber of chemical holding tank to provide a steady supply of chemical solution to the chemical holding chamber through a closed loop system, a neutralization tank for receiving contaminated rinse water from the chemical holding tank, and an electronic controller for controlling the cycling of the specimen between the chemical holding chamber and the position for receiving a beam of X-rays from an X-ray source.

La présente invention vise un système automatique utilisé pour déterminer par diffraction des rayons X les propriétés d'un matériau sous la surface d'un échantillon comprenant un support d'échantillon, un accessoire rotatif de montage et d'alignement servant à fixer le support de l'échantillon sur l'arbre d'un système de mise en position mu par un moteur, un réservoir de produits chimiques comptant une première moitié comportant une chambre renfermant des produits chimiques constituant un bain de produits chimiques pour enlever le matériau de surface de l'échantillon et une deuxième moitié servant d'emplacement permettant la mesure par diffraction des rayons X de l'échantillon, un réservoir de produits chimiques communiquant avec la chambre contenant des produits chimiques du réservoir de produits chimiques en vue d'offrir un approvisionnement constant en solution chimique à la chambre renfermant des produits chimiques au moyen d'un système en boucle fermée, un réservoir de neutralisation recevant l'eau de rinçage contaminée provenant du réservoir de produits chimiques, et une commande électronique pour régler le cycle de l'échantillon entre la chambre contenant des produits chimiques et l'emplacement où il reçoit un faisceau de rayons X provenant d'une source de rayons X.

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