C - Chemistry – Metallurgy – 07 – K
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
K
C07K 5/065 (2006.01) A61K 38/05 (2006.01) A61P 3/00 (2006.01) C07K 5/00 (2006.01)
Patent
CA 2743145
The present invention relates to a compound represented by formula (I): wherein R1 represents a hydrogen atom or the like; R2 and R3 represent a hydrogen atom or the like; R4 is a group represented by (II) R5 represents a phenyl group which may be substituted with a halogen or the like; m is an integer of from 1 to 3; and p is an integer of from 0 to 4; or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
La présente invention porte sur un composé représenté par la formule (I) : dans laquelle R1 représente un atome d'hydrogène ou similaire ; R2 et R3 représentent un atome d'hydrogène ou similaire ; R4 est un groupe représenté par (II), R5 représente un groupe phényle qui peut être substitué par un halogène ou similaire ; m est un entier de 1 à 3 ; et p est un entier de 0 à 4 ; ou sur un sel pharmaceutiquement acceptable de ce composé.
Dykstra Kevin D.
Jona Hideki
Okamoto Osamu
Sasaki Yasuhiro
Watanabe Hitomi
Merck Sharp & Dohme Corp.
Msd K.k.
Norton Rose Or S.e.n.c.r.l. S.r.l./llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1614883