C - Chemistry – Metallurgy – 25 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
25
D
C25D 3/56 (2006.01)
Patent
CA 2554611
An electroplating bath, a system, a process for, and the article obtained from, depositing a zinc-nickel ternary or higher alloy, a) zinc ions; b) nickel ions; and c) one or more ionic species selected from ions of Te+4, Bi+3 and Sb+3, and in some embodiments, further including one or more additional ionic species selected from ions of Bi+3, Sb+3, Ag+1, Cd+2, Co+2, Cr+3, Cu+2, Fe+2, In+3, Mn+2, Mo+6, P+3, Sn+2 and W+6. In some embodiments, the system includes a divider (116, 216, 316, 416) forming a cathodic chamber (114, 214, 314, 414) and an anodic chamber (112, 212, 412), with the electroplating bath in the cathodic chamber (114, 214, 314, 414) only. In various embodiments, the zinc-nickel ternary and higher alloys may provide improved properties to the conductive substrates upon which the alloys are deposited.
La présente invention concerne un bain, un système, un procédé pour appliquer un revêtement électrolytique, ainsi que l'article obtenu en appliquant un revêtement électrolytique sur un alliage zinc-nickel ternaire ou supérieur. Ledit bain comprend a) des ions zinc, b) des ions nickel et c) une ou plusieurs espèces ioniques choisies parmi les ions de Te?+4¿, Bi?+3¿ et Sb?+3¿. Dans certains modes de réalisation, le bain comprend également une ou plusieurs autres espèces ioniques choisies parmi les ions de Bi?+3¿, Sb?+3¿, Ag?+1¿, Cd?+2¿, Co?+2¿, Cr?+3¿, Cu?+2¿, Fe?+2¿, In?+3¿, Mn?+2¿, Mo?+6¿, P?+3¿, Sn?+2¿ et W?+6¿. Dans certains modes de réalisation, ledit système comprend un diviseur (116, 216, 316, 416) qui forme une chambre cathodique (114, 214, 314, 414) et une chambre anodique (112, 212, 412), le bain de revêtement électrolytique se trouvant uniquement dans la chambre cathodique (114, 214, 314, 414). Dans divers modes de réalisation, les alliages zinc-nickel ternaires ou supérieurs peuvent conférer des propriétés améliorées aux substrats conducteurs sur lesquels ils sont déposés.
Bishop Craig V.
Capper Lee Desmond
Opaskar Vincent C.
Wynn Paul Christopher
Atotech Deutschland Gmbh
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1920814