C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
167/179, 260/351
C07D 307/85 (2006.01) A61K 31/19 (2006.01) A61K 31/33 (2006.01) C07C 69/757 (2006.01) C07C 229/26 (2006.01) C07C 311/19 (2006.01) C07D 311/66 (2006.01) C07D 317/46 (2006.01) C07D 333/70 (2006.01)
Patent
CA 2030566
PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention concerne de nouveaux sulfonamides dérivés d'acides benzocycliques ou benzohétérocycliques et leurs dérivés de formule générale (I) dans laquelle R représente un radical alcoyle léger de 1 à 9 C linéaire ou ramifié; un radical phényle substitué ou non par un ou plusieurs groupes: alcoyle léger ramifié ou non de 1 à 4 C, halogéno, alcoyloxy, nitro, amino, dialkylamino, CF3; un naphtalène substitué ou non; un radical thiophényle; R1 représente un hydrogène ou un alcoyle inférieur ramifié ou non, un benzyle; R2 représente un hydrogène, un groupe alcoyle inférieur ramifié ou non, un groupement phényle substitué ou non, un groupement arylalcoyle; R3 représente un hydrogène ou un alcoyle inférieur, ramifié ou non (1 à 6C); -X- représente un radical fonctionnel divalent choisi parmi les suivants: -CH2-; CH-OR4; -C=O; -C=N-OR4; et .alpha. avec R4=H ou Me, avec -X- différent -CH2- quand -A- repré- sente des radicaux divalents a, b, d, et e ci-dessous. -A- représente un radical bivalent benzocyclique ou benzohétéro- cyclique choisi parmi les composés (a) à (j); n peut prendre les valeurs de 1 à 4 inclus ainsi que les sels organiques ou minéraux (R3=H) thérapeutiquement acceptables, les isomères ou diasteréoisomères purs ou leur mélange et toutes les compositions pharmaceutiques de formule (I) avec d'autres principes actifs. L'invention concerne l'application de formule (I) comme médicament et les procédés de préparation.
Bigg Dennis
Duflos Alain
Rieu Jean-Pierre
Pierre Fabre Medicament
Robic
LandOfFree
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