C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 403/00 (2006.01) A61K 31/55 (2006.01) A61K 31/675 (2006.01) C07D 243/14 (2006.01) C07D 243/24 (2006.01) C07D 401/02 (2006.01) C07D 401/04 (2006.01) C07D 403/12 (2006.01) C07D 405/12 (2006.01) C07D 409/12 (2006.01) C07D 413/06 (2006.01) C07D 417/06 (2006.01) C07F 9/645 (2006.01)
Patent
CA 2120035
2120035 9307130 Composés de formule (I) dans laquelle R1 représente un atome d'hydrogène ou d'halogène ou un radical alkyle, alcoxy, alkylthio, nitro, hydroxy ou cyano; R2 représente un radical alkyle ou une chaîne -CH(R5)-CO-R6; R3 représente (a) un radical phényle substitué par un ou plusieurs substituants choisis parmi les radicaux -alk-SO3H, -alk-PO3H2, -CH=NOH, -CH=NO-alk-COOX, -S-alk-COOX, -SO-alk-COOX, -SO2-alk-COOX, -CH=CH-COOX, -alk-CO-NHOH, -C(=NOH)-COOX, -alk-N(OH)-CO-alk, -alk-SO2H, -CH=CH-SO3H, -C(COOX)=N-O-alk-COOX, tétrazolylalkyle ou un groupe de formule (1) ou (b) un cycle de formule (A) dans laquelle R9 représente un radical =NOX, =NO-alk-COOX, =CH-COOX, -alk-COOX, -alk-SO2H ou -alk-SO3H, R10 représente un atome d'oxygène ou de soufre ou un radical méthylène ou alkylimino et R11 représente un radical méthylène ou éthylène, R4 représente un radical pyridyle ou phényle éventuellement substitué par un ou plusieurs substituants choisis parmi les atomes d'halogène et les radicaux alkyle, alcoxy, hydroxy, carboxy, nitro et -CO-NR6, alk représente un radical alkyle ou alkylène et X représente un atome d'hydrogène ou un radical alkyle; leurs sels, leur préparation et les médicaments les contenant.
Capet Marc
Cotrel Claude
Dubroeucq Marie-Christine
Guyon Claude
Martin Jean-Paul
Rhone-Poulenc Rorer S.a.
Robic
LandOfFree
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