C - Chemistry – Metallurgy – 08 – K
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
K
C08K 5/20 (2006.01) C08L 23/10 (2006.01)
Patent
CA 2486940
A composition containing (1) a crystalline polypropylene resin and (2) one or more .szlig.-nucleating agents of the formula (I), wherein R1, R2 and R3, independently of one another, are C1-C20alkyl, C2-Calkyl substituted by C1- C,1oalkylamino, di(C1-C1oalkyl)amino, C1-Cloalkyloxy or hydroxy; C3- C2oalkenyl, C5-C12cycloalkyl, C5-C12Cycloalkyl substituted by 1, 2 or 3 C1- C10alkyl; cyclohexylmethyl; cyclohexylmethyl substituted by 1, 2 or 3 C1- C1oalkyl; C5-C9cycloalkenyl, C5-C9cycloalkenyl substituted by 1, 2 or 3 C1- C10alkyl; phenyl substituted by 1, 2 or 3 radicals selected from the group consisting of C1-C10-oalkyl, C1-C10alkyloxy, hydroxy, halogen, trihalogenmethyl, trihalogenmethoxy, benzoyl, phenylamino, acylamino and phenylazo; C7-C9phenylalkyl, C7-C9phenylalkyl which is substituted on the phenyl by 1, 2 or 3 radicals selected from the group consisting of C1- Cloalkyl, C1-C10alkoxy and hydroxy; naphthyl, naphthyl substituted by C1C1oalkyl, adamantyl, or a 5 to 6 membered heterocyclic group; characterized in that the polypropylene resin has a content of .szlig.-form crystals of at least 10 % calculated by means of the following equation .szlig.-form crystal content (%) = 100 x P.szlig.1,/(Pa1 + Pa2 + Pa3 + P.szlig.1) where Pa1 to Pa3 are respective peak heights (maxima) of the a-form and P.szlig.1 is a peak height (maximum) of the .szlig.-form determined by wide angle X-ray scattering.
La présente invention se rapporte à une composition contenant (1) une résine de polypropylène cristallin et (2) un ou plusieurs agents de .beta.-nucléation représentés par la formule (I), dans laquelle R¿1?, R¿2? et R¿3, ?sont, indépendamment l'un de l'autre, alkyle C¿1?-C¿20?, alkyle C¿2?-C¿20? substitué par alkylamino C¿1?-C¿10?, di(alkyle C¿1?-C¿10?)amino, alkyloxy C¿1?-C¿10? ou hydroxy; alcényle C¿3?-C¿20?, cycloalkyle C¿5?-C¿12?, cycloalkyle C¿5?-C¿12?substitué par 1, 2 ou 3 alkyle C¿1?-C¿10?; cyclohexylméthyle; cyclohexylméthyle substitué par 1, 2 ou 3 alkyle C¿1?-C¿10?; cycloalcényle C¿5?-C¿9?, cycloalcényle C¿5?-C¿9? substitué par 1, 2 ou 3 alkyle C¿1?-C¿10?; phényle substitué par 1, 2 ou 3 radicaux sélectionnés dans le groupe constitué par alkyle C¿1?-C¿10?, alkyloxy C¿1?-C¿10?, hydroxy, halogène, trihalogenméthyle, trihalogenméthoxy, benzoyle, phénylamino, acylamino et phénylazo; phénylalkyle C¿7?-C¿9?, phénylalkyle C¿7?-C¿9? qui est substitué sur le phényle par 1, 2 ou 3 radicaux sélectionnés dans le groupe constitué par alkyle C¿1?-C¿10?, alcoxy C¿1?-C¿10? et hydroxy; naphtyle, naphtyle substitué par alkyle C¿1-?C¿10?, adamantyle, ou un groupe hétérocyclique à 5 ou 6 éléments. Cette composition se caractérise en ce que la résine de polypropylène possède une teneur en cristaux de forme .beta. d'au moins 10 % calculée au moyen de l'équation suivante : Teneur en cristaux de forme .beta. (%) = 100 x P¿.beta.1?,/(P¿.alpha.1? + P¿.alpha.2? + P¿.alpha.3? + P¿.beta.1?) où P¿.alpha.1? à P¿.alpha.3? sont les hauteurs de pic respectives (maxima) de la forme .alpha. et P¿.beta.1? est une hauteur de pic (maximum) de la forme .beta., ladite teneur étant déterminée par diffusion de rayons X grand angulaire.
Hoffmann Kurt
Maeder Dietmar
Schmidt Hans-Werner
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1915930