C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
C08G 63/189 (2006.01) C08G 63/19 (2006.01) C08G 63/193 (2006.01) C08G 63/60 (2006.01) C08J 5/18 (2006.01) C08L 67/02 (2006.01) G03C 1/795 (2006.01) G11B 5/73 (2006.01)
Patent
CA 2259536
A biaxially oriented film which is made substantially of (1) a polyethylene naphthalate copolymer comprising an ethylene naphthalate unit in an amount of 92 to 99.5 mol% based on all recurring units and at least one copolymer component selected from the group consisting of (a) a glycol having a fluorene skeleton in the molecule, (b) p-hydroxymethylbenzoic acid, (c) p- hydroxyethoxybenzoic acid and (d) p- hydroxyethoxyethoxybenzoic acid in an amount of 0.5 to 8 mold based on the total of all dicarboxylic acid components, and which has (2) Young's moduli in both longitudinal and transverse directions of 500 kg/mm2 or more and (3) a delamination resistance of 10 % or less in terms of fold line whitening ratio. Since this biaxially oriented film of the present invention is excellent in delamination resistance, curling resistance, mechanical strength, color and transparency, it is of great value as a base film for a photo film.
L'invention porte sur un film copolymère de naphtalate de polyéthylène à orientation biaxiale qui se caractérise en ce que: (1) il est pratiquement constitué d'un copolymère de naphtalate de polyéthylène qui comprend des unités de naphtalate d'éthylène dans une quantité comprise entre 92 et 99,5 % en mole sur la base de la quantité totale des unités de répétition, et qui contient au moins un composant monomère sélectionné dans le groupe constitué par les composants suivants (a) à (d) dans une quantité comprise entre 0,5 et 8 % en mole sur la base de la quantité totale des composants d'acide dicarboxylique: (a) des glycols comportant un squelette de fluorène dans la molécule, (b) l'acide p-hydroxyméthylbenzoïque, (c) l'acide p-hydroxyéthoxybenzoïque et (d) l'acide p-hydroxyéthoxyéthoxybenzoïque; (2) il possède des modules d'élasticité longitudinale et d'élasticité transversale égaux ou supérieurs à 500 kg/mm<2>, et (3) il présente une résistance au délaminage, en termes de rapport de largeur de plis, inférieure ou égale à 10 %. Ce film présente une excellente résistance au délaminage, d'excellentes propriétés anti-enroulement, une excellente résistance mécanique, d'excellentes couleurs, teintes et une excellente transparence, toutes ces propriétés étant précieuses pour obtenir un film de base dans les films photographiques.
Ito Seiji
Kosuge Masahiko
Teramoto Mitsuru
Tsukamoto Ryoji
Borden Ladner Gervais Llp
Teijin Limited
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1375555