Biaxially-textured film deposition for superconductor coated...

H - Electricity – 01 – L

Patent

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H01L 39/00 (2006.01)

Patent

CA 2560771

Methods for depositing, at a very high deposition rate, a biaxially-textured film on a continuously moving metal tape substrate are disclosed. These methods comprise: depositing a film on the substrate with a deposition flux having an oblique incident angle of about 5~ to about 80~ from the substrate normal, while simultaneously bombarding the deposited film using an ion beam at an ion beam incident angle arranged along either a best ion texture direction of the film or along a second best ion texture direction of the film, thereby forming the biaxially-textured film wherein a deposition flux incident plane is arranged parallel to a direction along which the biaxially- textured film has a fast in-plane growth rate. Superconducting articles comprising a substrate, a biaxially-textured film deposited on said substrate by said methods above; and superconducting layer disposed on the biaxially- textured film are also disclosed.

La présente invention a trait à des procédés pour le dépôt, à un débit de dépôt extrêmement élevé, d'un film à texture biaxiale sur un substrat de ruban métallique en défilement continu. Ces procédés comprennent: le dépôt d'un film sur le substrat avec un flux de dépôt ayant un angle incident oblique entre environ 5° et environ 80° par rapport à la normale du substrat, tout en bombardant simultanément le film déposé à l'aide d'un faisceau ionique à un angle incident de faisceau ionique disposé selon soit une direction pour l'obtention de la meilleure texture du film ou d'une direction pour l'obtention d'une texture de deuxième ordre du film, formant ainsi un film à texture biaxiale dans lequel un plan incident de flux de dépôt est disposé en parallèle à la direction selon laquelle le film à texture biaxiale présente un taux de croissance rapide dans le plan. L'invention a également trait à des articles supraconducteurs comportant un substrat, un film à texture biaxiale déposé sur ledit substrat obtenu par le procédé de l'invention, et à une couche supraconductrice déposée sur le film à texture biaxiale.

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