C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 207/00 (2006.01) C07C 235/78 (2006.01) C07C 237/22 (2006.01) C07C 237/42 (2006.01) C07C 255/60 (2006.01) C07D 207/16 (2006.01) C07D 217/26 (2006.01) C07D 295/185 (2006.01) C07D 295/192 (2006.01) C07D 317/60 (2006.01)
Patent
CA 2377629
The present invention provides a novel biphenyl butyric acid derivative, isomer and pharmaceutically acceptable salts thereof which are useful as an inhibitor of matrix metalloproteinase (MMP) and a process for preparing the same. Since the biphenyl butyric acid derivative of the invention selectively inhibits the activity of MMP in vitro, it can be practically applied to the treatment and prevention of diseases caused by overexpression of MMP.
Cette invention, qui a trait à de nouveaux dérivés d'acide diphénylbutirique, à leurs isomères ainsi qu'à leurs sels admissibles du point de vue pharmaceutique, lesquels dérivés se révèlent des plus utiles en tant qu'inhibiteurs de la métalloprotéinase matricielle (MMP), concerne également un procédé de production de ces composés. Dans la mesure où ces dérivés d'acide diphénylbutirique inhibent, de manière sélective, l'activité des MMP in vitro, ils sont administrés dans le cadre du traitement et de la prévention de différents états pathologiques dus à une surexpression et à une suractivation de MMP.
Bae Hae-Young
Chae Myeong-Yun
Kim Kyung-Chul
Lee Jeoung-Wook
Min Hye-Kyung
Cassan Maclean
Samsung Electronics Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1755941