C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 233/66 (2006.01) A61K 31/166 (2006.01) A61K 31/167 (2006.01) A61P 25/00 (2006.01) C07C 233/15 (2006.01) C07C 233/44 (2006.01) C07C 235/42 (2006.01) C07D 295/155 (2006.01)
Patent
CA 2366205
The invention relates to compounds of general formula (I) wherein R is hydrogen, lower alkyl, lower alkoxy, halogen, amino, -N(R6)2 or trifluoromethyl; R1 is hydrogen, lower alkoxy or halogen; R and R1 may be together -CH=CH-CH=CH-; R2 is halogen, lower alkyl or trifluoromethyl; R3 is hydrogen or lower alkyl; R4 is hydrogen or a cyclic tertiary amine, optionally substituted by lower alkyl; R5 is hydrogen, nitro, amino or -N(R6)2; R6 is hydrogen or lower alkyl; X is - C(O)N(R6)-, -(CH2)n O-, -(CH2)n N(R6)-, -N(R6)C(O)- or -N(R6)(CH2)n-; and n is 1 or 2; and pharmaceutically acceptable acid addition salts thereof. The compounds of formula I may be used for the treatment of diseases related to the NK-1 receptor.
L'invention concerne des composés de formule générale I, dans laquelle: R représente hydrogène, alkyle inférieur, alkoxy inférieur, halogène, amino, -N(R<6>)2, ou trifluorométhyle; R<1> désigne hydrogène, alkoxy inférieur, ou halogène, R et R<1> pouvant former ensemble -CH=CH-CH=CH-; R<2> symbolise halogène, alkyle inférieur, ou trifluorométhyle; R<3> représente hydrogène ou alkyle inférieur; R<4> représente hydrogène ou une amine tertiaire cyclique, éventuellement substituée par alkyle inférieur; R<5> désigne hydrogène, nitro, amino, ou N(R<6>)2; R<6> symbolise hydrogène ou alkyle inférieur; X représente -C(O)N(R<6>)-, -(CH2)nO-, -(CH2)nN(R<6>)-, -N(R<6>)C(O)-, ou -N(R<6>)(CH2)n-; et n est égal à 1 ou 2. Cette invention concerne également des sels d'addition acide pharmaceutiquement acceptables de ces composés de formule I, lesquels peuvent être utilisés pour traiter les maladies liées au récepteur NK-1.
Boes Michael
Galley Guido
Godel Thierry
Hoffmann Torsten
Hunkeler Walter
Boes Michael
Borden Ladner Gervais Llp
F. Hoffmann-La Roche Ag
LandOfFree
Biphenyl derivatives does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Biphenyl derivatives, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Biphenyl derivatives will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1942591