Bisarylalcene derivatives, process for their preparation and...

C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D

Patent

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167/208, 260/263

C07D 401/00 (2006.01) A61K 31/495 (2006.01) C07D 207/08 (2006.01) C07D 211/18 (2006.01) C07D 223/04 (2006.01) C07D 401/06 (2006.01) C07D 401/14 (2006.01) C07D 403/06 (2006.01) C07D 471/04 (2006.01) C07D 487/04 (2006.01)

Patent

CA 2007401

P R E C I S NOUVEAUX DERIVES DES BISARYLALCENES, LEURS PROCEDES DE PREPARATION ET LES COMPOSITIONS PHARMACEUTIQUES QUI LES CONTIENNENT ADIR ET COMPAGNIE 22 RUE GARNIER F-92201 NEUILLY SUR SEINE L'invention concerne des composés de formule I : Image (I) dans laquelle - m = 2 - 4, - n et p identiques ou différents représentent un nombre entier égal à 1, 2 ou 3, à la condition que la somme de n et de p soit supérieure ou égale à 3, et inférieure ou égale à 5, - q = O ou 1 R représente un radical tétrahydro-1,2,3,4 quinazolyle-3 éventuellement substitué, un radical hexahydro-1,3,4,6,11,11a-2H pyrazino [1,2-b] isoquinolyl-2 dione-1,3, un radical dihydro-1,2 oxo-1 phtalazinyle-2 éventuellement substitué, un radical dioxo-2,6 pipérazinyle-1 de formule W : Image (W) (R3 représente un radical pyridyle-2 ou un radical phényle éventuellement substitué), un radical de formule Z : Image (Z) (R4 représente un radical carbamoyle, un radical cyano, un radical hydroxycarbonyle, ou un radical alcoxyoarbonyle de 1 à 6 atomes de carbone), ou un radical de formule Y : Image (Y) (R5 représente un radical pyrimidinyl -2, un radical isoquinolyl -1, un radical quinolyl-2, un radical pyridyl-2, un radical benzyle éventuellement substitué, un radical thiazolyl-2 éventuellement substitué ou un radical benzothiazolyl-2), - R1 et R2 soit identiques ou différents représentent chacun un radical phényle substitué, soit R1 représente un radical phényle et R2 un radical pyridyle-2 (chacun de ces deux radicaux pouvant être substitué), soit R1 et R2 forment ensemble avec l'atome de carbone auquel ils sont attachés un radical fluorène. Médicaments

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