C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 477/20 (2006.01) A61K 31/40 (2006.01) A61K 31/41 (2006.01) A61K 31/435 (2006.01) A61K 31/495 (2006.01) A61K 31/695 (2006.01) C07D 519/06 (2006.01) C07F 7/10 (2006.01)
Patent
CA 2241321
A cephem compound of formula (I) wherein R1 stands for an optionally substituted lower alkyl group, R2 stands for H or a lower alkyl group, R3 stands for H, an optionally substituted hydrocarbon group, cyano group, a lower alkyloxy group or a lower alkylthio group, and the ring A stands for an optionally substituted non-quaternarized nitrogen-containing heterocyclic ring, provided that, when A is unsubstituted 2-pyridyl group, R3 stands for a group other than hydrogen, or their esters or salts, has excellent antibacterial activities, oral absorbability and stability, and is useful as an antibacterial agent.
Composés cephem de la formule (I), dans laquelle R?1¿ représente un groupe alkyle inférieur facultativement substitué, R?¿ représente H ou un groupe alkyle inférieur, R?3¿ représente H, un groupe hydrocarbure facultativement substitué, un groupe cyano, un groupe alkoxy inférieur ou un groupe alkylthio inférieur et la liaison A représente une liaison hétérocyclique contenant un azote non quaternarisé facultativement substitué, sous réserve que, lorsque A est un groupe 2-pyridyle non substitué, R?3¿ représente un groupe autre que l'hydrogène, ou leurs esters ou leurs sels. Ce composé se distingue par ses activités antibactériennes, son absorbabilité orale et sa stabilité et se révèle utile comme agent antibactérien.
Imamura Shinichi
Ishibashi Yukio
Miwa Tetsuo
Fetherstonhaugh & Co.
Takeda Chemical Industries Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1378436