C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 235/52 (2006.01) C07C 59/66 (2006.01) C07C 59/68 (2006.01) C07C 69/734 (2006.01) C07C 233/51 (2006.01) C07C 233/55 (2006.01) C07C 233/87 (2006.01) C07C 235/34 (2006.01) C07C 235/38 (2006.01) C07C 235/60 (2006.01) C07C 235/78 (2006.01) C07C 235/84 (2006.01) C07C 255/57 (2006.01) C07C 271/22 (2006.01) C07D 209/14 (2006.01) C07D 209/42 (2006.01) C07D 213/30 (2006.01) C07D 213/55 (2006.01) C07D 213/56 (2006.01) C07D 213/64 (2006.01) C07D 213/81 (2006.01) C07D 213/82 (2006.01) C07D 215/04 (2006.01) C07D 217
Patent
CA 2385081
Disclosed is a carboxylic acid compound of the formula: (see formula I) (wherein R1 is H, OH or a C2-6 alkyl group etc.; L is a single or double bond or a C1-6 alkylene group etc.; M is a single bond or a C1-6 alkylene group etc.; T is a single bond or a C1-3 alkylene group etc.; W is -COOH or -CON (R w1) R w2 (wherein R w1 and R w2 are H, CHO or the like) etc., ----- is a single bond or double bond; X is O or a C2-6 alkenylene group etc.; Y is an aromatic hydrocarbon group etc.; and ring Z is an aromatic group) useful as an insulin-resistant improver, i.e. a medicament for hyperglycemia or hyperlipemia.
L'invention concerne de nouveaux dérivés d'acide carboxylique de formule générale (I), leurs sels, leurs esters ou leurs hydrates, utiles comme agents améliorant la résistance à l'insuline ainsi que des médicaments contenant ces dérivés servant de principe actif. Dans ladite formule, R1 désigne un hydrogène, hydroxyle, alkyle ou analogue; L désigne une liaison simple, une liaison double, alkylène ou analogue; T désigne une liaison simple, une liaison double, alkylène ou analogue; W désigne un carboxyle, -CON(R<W1>)R<W2> ou analogue; <o>......</o> désigne une liaison simple ou une liaison double; X désigne un oxygène, un alcénylène ou analogue; Y désigne un groupe d'hydrocarbure aromatique contenant éventuellement un hétéroatome ou analogue et Z désigne un groupe d'hydrocarbure aromatique contenant un hétéroatome.
Clark Richard
Emori Eita
Harada Hitoshi
Hibara Taro
Kaneko Toshihiko
Eisai Co. Ltd.
Eisai R&d Management Co. Ltd.
Smart & Biggar
LandOfFree
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