C - Chemistry – Metallurgy – 01 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
01
B
C01B 33/149 (2006.01) C01B 33/14 (2006.01) C08K 3/36 (2006.01) C09D 183/04 (2006.01)
Patent
CA 2380269
Provided is a cationized silica dispersion prepared by dispersing dry processed silica and a cationic resin in a polar solvent, wherein a concentration of dissolved silicic acid at 25°C is 200 ppm or less. This cationized silica dispersion does not substantially form coagulated matters when blended with a binder and therefore can advantageously be used for producing a coating composition such as a coating composition for forming a gas barrier layer, a corrosion preventive coating composition and a coating composition for ink jet recording paper.
Est divulguée une dispersion de silice cationisée préparée en dispersant de la silice sèche traitée et une résine cationique dans un solvant polaire, dans laquelle une concentration d'acide silicique dissoute à 25 degrés C est de 200 ppm ou moins. Cette dispersion de silice cationisée ne forme pas essentiellement de matières coagulées lorsque mélangée avec un composé liant et peut donc être avantageusement utilisée pour la production d'une composition de revêtement telle qu'une composition de revêtement pour former une couche étanche au gaz, une composition de revêtement anti-corrosion et une composition de revêtement pour papier d'enregistrement par jet d'encre.
Fukuda Kentaro
Fukunaga Kenji
Yamashita Hiroya
Smart & Biggar
Tokuyama Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1531175