C - Chemistry – Metallurgy – 08 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
F
C08F 226/10 (2006.01) C04B 24/26 (2006.01) C08F 220/56 (2006.01) C08F 222/38 (2006.01) C08F 226/02 (2006.01) C08F 226/06 (2006.01)
Patent
CA 2356272
A composition comprising a polymer which comprises repeat units derived from a first unsaturated amide, a hydroxy acrylate, and at least two monomers selected from the group consisting of (1) a vinyl pyridine or derivative thereof and acrylic acid or salt thereof; (2) a vinyl morpholine and a second unsaturated amide; (3) acrylic acid or salt thereof and a second unsaturated amide; (4) acrylic acid or salt thereof, a vinyl pyridine, and a vinyl morpholine; and combination of two or more thereof wherein said first unsaturated amide is not the same as said second unsaturated amide.
L'invention concerne une composition comprenant un polymère composé de motifs de répétition dérivés d'un premier amide insaturé, d'un hydroxyacrylate, et d'au moins deux monomères choisis dans le groupe constitué de (1) une vinylpyridine ou un dérivé de celui-ci, de l'acide acrylique ou un sel de celui-ci; (2) une vinylmorpholine et un deuxième amide insaturé; (3) un acide acrylique ou un sel de celui-ci et un deuxième amide insaturé; (4) un acide acrylique ou un sel de celui-ci, une vinylpyridine et une vinylmorpholine; et une combinaison d'au moins deux de ces éléments, l'amide insaturé n'étant par le même que le deuxième amide insaturé.
Efner Howard F.
Stephens Michael
Osler Hoskin & Harcourt Llp
Phillips Petroleum Company
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1426070