C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
260/106.1
C07D 501/24 (2006.01) A61K 31/43 (2006.01) A61K 31/545 (2006.01) C07D 501/04 (2006.01) C07D 501/06 (2006.01) C07D 501/20 (2006.01) C07D 501/22 (2006.01) C07D 501/34 (2006.01) C07D 501/36 (2006.01) C07D 501/46 (2006.01) C07D 501/48 (2006.01) C07D 501/56 (2006.01) C07D 501/60 (2006.01)
Patent
CA 1026745
PRECIS DE LA DIVULGATION: La présente invention se rapporte à de nouveaux dérivés de la céphalosporine de formule générale I: Image dans laquelle l'un des symboles A et A1 représente un atome d'oxygène ou de soufre et l'autre représente un atome de sou- fret R1 représente un atome d'hydrogène, un radical acétoxy, (méthyl-5 thiadiazol-1,3,4 yl-2) thio ou (méthyl-1 tétrazol-1, 2,3,4 yl-5) thio et R2 représente un radical carboxy ou bien R1 représente un radical pyridinio et R2 représente l'ion car- boxylato, ainsi que leurs sels métalliques et leurs sels d'ad- dition avec les bases azotées pharmaceutiquement acceptables lorsque R2 est le radical carboxy, et leur procédé particulier de préparation. Les nouveaux dérivés selon l'invention sont utiles notamment dans le traitement des infections bactériennes.
Berger Christian
Farge Daniel
Gros Georges
Messer Mayer N.
Moutonnier Claude
LandOfFree
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