C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 501/38 (2006.01) A61K 31/545 (2006.01) C07D 401/04 (2006.01) C07D 409/04 (2006.01) C07D 501/00 (2006.01) C07D 519/06 (2006.01)
Patent
CA 2250002
The present invention is directed to a cephem compound, wherein the cephem ring has a substituent at the 3-position, which substituent is shown by the formula II, wherein Het is a mono- or polycyclic heterocyclic group comprising one or more hetero atoms selected from the group consisting of N, O and S which may be the same or different from each other; R1 is hydrogen, an optionally substituted lower alkyl or an optionally substituted lower alkenyl; A is an optionally substituted lower alkylene, an optionally substituted lower alkenylene or a single bond; B is an optionally substituted imino or a single bond; or A and B taken together may form a single bond; and D is a single bond or a group of the formula (a): Image
L'invention concerne des composés de céphem contenant des groupes de formule générale (II) en position 3 du cycle céphem, ou des sels ou des hydrates de ces composés. Dans la formule (II), Het représente un hétérocycle monocyclique ou polycyclique ayant un ou plusieurs atomes choisis entre N, O et S, qui peuvent être égaux ou différents les uns des autres; R<1> représente l'hydrogène, un alkyle inférieur éventuellement substitué ou un alcényle inférieur; A représente un alkylène inférieur éventuellement substitué, un alcénylène inférieur ou une liaison simple; B représente un imino éventuellement substitué ou un liaison simple, A et B pouvant être alternativement unis pour constituer une liaison simple; et D représente une liaison simple ou le groupe (a).
Ishikura Koji
Nishitani Yasuhiro
Kirby Eades Gale Baker
Shionogi & Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1468227