C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 233/17 (2006.01) A61K 8/68 (2006.01) A61K 31/16 (2006.01) C07C 233/18 (2006.01) C07C 233/20 (2006.01) C07C 235/08 (2006.01)
Patent
CA 2173543
La présente invention a pour objet un composé répondant à la formule: Image (I) dans laquelle R1 désigne un radical alkyle hydroxylé, saturé ou insaturé, en C10 à C25; n est égal à 0 ou 1; R2 désigne un radical alkyle linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé, en C1 à C31, lorsque n égal 1; R2 désigne un radical alkyle linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé, en C2 à C31, lorsque n égal 0; le composé étant sous forme d'un mélange d'isomères au moins sur la partie amino-alcool de ladite formule (I). Elle a également trait à leur procédé de préparation ainsi que leur utilisation, notamment pour les traitements et les soins de la peau, des cheveux, des ongles et des cils en cosmétique ou en dermatologie.
Luppi Bernadette
Philippe Michel
Semeria Didier
L'oreal
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1717457