C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/44 (2006.01) C30B 25/14 (2006.01)
Patent
CA 2370153
The invention relates to a chamber for chemical vapour deposition, consisting of an inner quartz tube (1) which is enclosed by a shorter, outer quartz tube. Each end of the inner quartz tube (1) is surrounded by a first flange (3), which presents a groove (3') which extends in the longitudinal direction of the inner quartz tube (1) and in which in each case the face end of the inner quartz tube (1) is positioned. A seal (5') is arranged between the first flange (3) and the outside of the inner quartz tube (1). On both first flanges (3) a second flange (4) is positioned in the direction of the tube centre which comprises a peripheral rim (4') for fixing the face end of the shorter, outer quartz tube (2) and contacts both the outside of the inner quartz tube (1) and the outside of the shorter, outer quartz tube (2). A seal (5) is positioned between the second flange (4) and the outside of the shorter, outer quartz tube (2). At least one second flange (4) comprises at least one connection (14) which can be closed and is connected to the space between the shorter, outer quartz tube (2) and the inner quartz tube (1). Each first flange (3) and each second flange (4) on the inside each have a cooling channel (8, 8') which in each case presents at least one inlet and one outlet for a coolant.
L'invention concerne une chambre pour réaliser un dépôt chimique en phase vapeur, comprenant un tube de quartz intérieur (1), entouré par un tube de quartz extérieur (2) plus court. Chaque extrémité du tube de quartz intérieur (1) est entourée d'une première bordure (3) présentant une rainure périphérique (3') qui s'étend dans le sens longitudinal du tube de quartz intérieur (1) et dans laquelle est positionnée à chaque fois la face du tube de quartz intérieur (1). Un élément d'étanchéité (5') est placé entre la première bordure (3) et le côté extérieur du tube de quartz intérieur (1). Une deuxième bordure (4) placée sur la première bordure (3), en direction du centre du tube, présente une arête périphérique (4') servant à bloquer la face du tube de quartz extérieur (2) plus court et prend appui aussi bien sur le côté extérieur du tube de quartz intérieur (1) que sur le côté extérieur du tube de quartz extérieur (2) plus court. Un élément d'étanchéité (5) est placé entre la deuxième bordure (4) et le côté extérieur du tube de quartz extérieur (2) plus court. Au moins une deuxième bordure (4) présente au moins un raccord verrouillable (14) qui communique avec la zone comprise entre le tube de quartz extérieur (2) plus court et le tube de quartz intérieur (1). Chaque première bordure (3) et chaque deuxième bordure (4) présentent respectivement à l'intérieur un canal de refroidissement (8, 8') comportant respectivement au moins une entrée et une sortie pour un fluide de refroidissement.
Buschbeck Martin
Scholler Johann
Kirby Eades Gale Baker
Unaxis Trading Ag
LandOfFree
Chamber for chemical vapour deposition does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Chamber for chemical vapour deposition, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Chamber for chemical vapour deposition will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-2074383