C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/452 (2006.01) B05B 7/00 (2006.01) B05D 1/08 (2006.01) B32B 9/04 (2006.01) B32B 15/08 (2006.01) C23C 16/40 (2006.01)
Patent
CA 2393531
A modified chemical vapor deposition (CVD) method and various coatings formed by this method are disclosed. A uniform coating is obtained by the disclosed CVD method by redirecting the energy source and/or the hot gasses produced thereby. The methods disclosed are particularly useful for forming thin film, insulative, oxide coatings on the surface of conductive or super-conductive wires. The redirect methods are also useful for producing powders that can be collected for further processing. Metal oxide barrier coatings for polymer food containers are also disclosed.
L'invention concerne un procédé modifié de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et différents revêtements appliqués selon ce procédé. Ledit procédé CVD permet d'obtenir un revêtement uniforme en réacheminant la source d'énergie et/ou les gaz chauds produits. Selon l'invention, les procédés sont particulièrement utiles pour appliquer des couches d'oxyde isolantes sous forme de films fins sur la surface de fils conducteurs ou superconducteurs. Lesdits procédés de réacheminement sont également utiles pour produire des poudres qui peuvent être collectées avant un traitement ultérieur. L'invention concerne également des revêtements d'isolement d'oxyde métallique pour des contenants alimentaires polymères.
Dalzell William J. Jr.
Deshpande Girish
Hendrick Michelle
Hunt Andrew T.
Hwang Jan Tzyy-Jiuan
Finlayson & Singlehurst
Microcoating Technologies Inc.
Ngimat Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1801035