C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 311/58 (2006.01) A61K 31/353 (2006.01) A61P 25/18 (2006.01) A61P 25/24 (2006.01)
Patent
CA 2605587
Compounds of formula I or pharmaceutically acceptable salts thereof are provided: wherein each of R1, R2, R3, R4, y, m, n, and Ar are as defined, and described in classes and subclasses herein, which are agonists or partial agonists of the 2C subtype of brain serotonin receptors. The compounds, and compositions containing the compounds, can be used to treat a variety of central nervous system disorders such as schizophrenia.
L'invention concerne des composés de formule (I) ou des sels pharmaceutiquement acceptables de ces composés. Dans ladite formule (I), chaque R1, R2, R3, R4, y, m, n, et Ar sont tels que définis et sont décrits dans des catégories et sous-catégories figurant dans le descriptif de l'invention. Les composés selon l'invention sont des agonistes ou agonistes partiels des récepteurs cérébraux de la sérotonine de sous-type 2C. Lesdits composés, ainsi que des compositions contenant des composés peuvent être utilisés pour traiter une variété de troubles du système nerveux central tels que la schizophrénie.
Gao Hong
Gross Jonathan Laird
Heffernan Gavin David
Stack Gary Paul
Zhou Dahui
Torys Llp
Wyeth
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1935935