C - Chemistry – Metallurgy – 11 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
11
D
C11D 1/835 (2006.01) C11D 1/62 (2006.01) C11D 1/66 (2006.01) C11D 1/72 (2006.01)
Patent
CA 2211346
The specification discloses improved compositions which both clean a surface and are believed to deposit thereupon a layer of cationic surfactant which assists the release of soil subsequently deposited upon the said surface. These comprise a surfactant mixture, wherein said surfactant mixture itself comprises: a) at least 65 % wt on total surfactant of nonionic surfactant; b) less than 1 % wt on total surfactant of anionic surfactant; and c) 0.1-35 % wt on total surfactant of a cationic surfactant which is a substantially ethylenically saturated dialkyl quaternary ammonium compound.
La description concerne des compositions améliorées qui à la fois nettoient une surface et sont censées déposer sur celle-ci une couche de tensioactif cationique, lequel aide à l'enlèvement de salissures se déposant par la suite sur cette surface. Ces compositions comprennent un mélange de tensioactifs, lequel mélange comporte: a) au moins 65 % en poids, par rapport au poids total du tensioactif, d'un tensioactif non ionique, b) moins de 1 % en poids, par rapport au poids total du tensioactif, d'un tensioactif anionique, et c) 0,1 à 35 % en poids, par rapport au poids total du tensioactif, d'un tensioactif cationique qui est un composé de dialkyle ammonium quaternaire à saturation éthylénique.
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Plc Unilever
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1508203