C - Chemistry – Metallurgy – 09 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
09
D
C09D 11/00 (2006.01) B43L 19/00 (2006.01)
Patent
CA 2572355
The present invention is a system for hiding and later revealing a hidden layer. The system includes a substrate and applicator. As the user moves the applicator around the substrate, a coating is rendered transparent to reveal a hidden layer under the pattern of the user's movement of the applicator.The system comprises a substrateat least partially coated with a generally opaque coating that reacts with an eradicator fluid. A preferred coating as applied to the substrate comprises 20 - 80 wt% water, 0 - 3 wt% defoamer, 0 - 3 wt% surfactant, 0 - 5 wt% wetting agent, 1 - 25 wt% colorant, 1 - 60 wt% resin, and 0 - 4 wt% preservatives. A preferred reducing fluid in such case comprises 30 - 95 wt% water, 1 - 5 wt% pH adjuster, 5 - 15 wt%reducing agent, 0 - 5wt% surfactant, and 2 - 10 wt% buffer.
L'invention concerne un sous-système permettant de masquer et de révéler ensuite une couche cachée. Le système comprend un substrat et un applicateur. A mesure que l'on déplace l'applicateur autour du substrat, un revêtement est rendu transparent pour révéler une couche cachée sous l'effet du mouvement de l'applicateur. Le système comprend un substrat au moins partiellement pourvu d'un revêtement généralement opaque qui réagit à n fluide éradicateur. Un revêtement préféré comprend, en poids : 20 - 80 % d'eau, 0 - 3 % démousseur, 0 - 3 % de tensioactif, 0 - 5 % de mouillant, 1 - 25 % de colorant, 1 - 60 % de résine, et 0 - 4 % de préservateurs. Un fluide réducteur préféré comprend dans ce cas : 30 - 95 % d'eau, 1 - 5 % d'ajusteur de pH, 5 - 15 % d'agent réducteur, 0 - 5 % de tensioactif, et 2 - 10 % de tampon.
Glasscock Stephen D.
Guyler Karl
Krieger Cheryl
Li Jie
Skinner Craig
Binney & Smith
Blake Cassels & Graydon Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1621280