C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/35 (2006.01) B05B 5/00 (2006.01) B32B 17/00 (2006.01) C03C 17/34 (2006.01) C03C 17/36 (2006.01) C03C 17/38 (2006.01) C03C 17/42 (2006.01) C23C 4/10 (2006.01) C23C 14/08 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) G02B 1/10 (2006.01) H01J 37/34 (2006.01) C23C 14/58 (2006.01)
Patent
CA 2483342
An article includes a substrate, a functional coating deposited over the substrate, and a protective coating deposited over the functional coating. The functional coating and the protective coating define a coating stack. The protective coating provides the coating stack with an emissivity value higher than the emissivity value of the functional coating alone. The protective coating can have a thickness in the range of greater than 100 .ANG. to less than or equal to 10 microns and a refractive index in the range of 1.4 to 2. The protective coating can include a first layer formed over the functional coating and a second layer formed over the first layer. The first layer can include 50 wt.% to 100 wt.% alumina and 50 wt.% to 0 wt.% silica, and the second layer can include 50 wt.% to 100 wt.% silica and 50 wt.% to 0 wt.% alumina. An alternating current power supply and cathode target system includes a cathode target including aluminum in the range of 5 wt.% to 100 wt.% and silicon in the range of 0 wt.% to 95 wt.%.
L'invention concerne un article comprenant un substrat, un revêtement fonctionnel déposé sur ledit substrat et un revêtement protecteur déposé sur ledit revêtement fonctionnel. Les revêtements fonctionnels et protecteurs définissent une pile de revêtements. Le revêtement protecteur confère à la pile de revêtements une valeur d'émissivité supérieure à la valeur d'émissivité du revêtement fonctionnel seul. Ledit revêtement protecteur peut présenter une épaisseur comprise dans une plage supérieure à100 .ANG. à inférieure ou égale à 10 microns, et un indice de réfraction compris dans une plage de 1,4 à 2. Le revêtement protecteur peut comprendre une première couche formée sur le revêtement fonctionnel et une seconde couche formée sur ladite première couche. Cette première couche peut comprendre 50 % à 100 % en poids d'alumine et 50 % à 0 % en poids de silice, la seconde couche pouvant comprendre 50 % à 100 % en poids de silice et 50 % à 0 % en poids d'alumine. L'invention concerne une alimentation C.A. et un système de cible cathodique comprenant une cible cathodique qui renferme 50 % à 100 % en poids d'aluminium et 0 % à 95 % en poids de silicium.
Buhay Harry
Finley James J.
Lehan John P.
Thiel James P.
Borden Ladner Gervais Llp
Ppg Industries Ohio Inc.
LandOfFree
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