C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/00 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) C23C 30/00 (2006.01)
Patent
CA 2716619
The invention relates to a process for coating a substrate composed of cemented hard material, a cermet, steel or ceramic with at least one Ti1-x Al x N layer by means of a DC sputtering process. The invention further relates to a workpiece or tool which has been coated by the abovementioned process and its use. It is an object of the present invention to provide a process by means of which it is possible to produce coatings which combine the advantages of the sputtering process and the arc process, i.e. make it possible to obtain a coating which has a low roughness and an advantageous (200) texture. A further object of the present invention is to provide a workpiece which has a coating having the properties mentioned. A further object of the present invention is to use tools which are particularly suitable for metal machining. The object achieved by the process is characterized in that ioni-zation aids are used for increasing the plasma densities.
L'invention concerne un procédé de revêtement d'un corps de base en métal dur, en cermet, en acier ou en céramique par au moins une couche de Ti1-xAlxN au moyen d'un procédé de pulvérisation à courant continu. L'invention concerne en outre une pièce ou un outil qui sont revêtus à l'aide du procédé cité ci-dessus, et leur utilisation. L'objet de la présente invention consiste à proposer un procédé qui permet de former des revêtements qui rassemblent les avantages du procédé de pulvérisation et ceux du procédé à arc, et donc d'obtenir un revêtement qui présente une faible rugosité et une texture (200) avantageuse. Un autre objet de la présente invention consiste à produire une pièce qui présente un revêtement doté desdites propriétés. Un autre objet de la présente invention consiste à utiliser des outils qui conviennent particulièrement bien pour l'usinage des métaux. L'objet atteint par l'invention est caractérisé en ce que pour augmenter la densité du plasma, on utilise des auxiliaires d'ionisation.
Arndt Mirjam
Tabersky Ralf
Fetherstonhaugh & Co.
Kennametal Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1537138