Coatings, methods and apparatus for reducing reflection from...

G - Physics – 02 – B

Patent

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G02B 1/11 (2006.01) B05D 7/24 (2006.01) C03C 17/22 (2006.01) C03C 17/25 (2006.01) C03C 17/28 (2006.01) C03C 17/32 (2006.01) C03C 17/34 (2006.01) C03C 17/42 (2006.01) C23C 16/02 (2006.01) C23C 16/52 (2006.01) G01B 11/06 (2006.01)

Patent

CA 2279425

A method of coating optical substrates with anti-reflection (AR) coatings is described. The thickness and composition of the coating is determined by minimizing the product of the Fresnel reflection coefficients for a coating with the angular- and wavelength-dependent sensitivity of the human visual system to minimize the perceived reflectance for the coated article. A compact chamber is evacuated and flushed with chemically inert gas such as argon or nitrogen. One or more molecular precursors are deposited using plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) to form AR films. Single-layer AR coatings based on fluoropolymer films of controlled thickness, as well as organic, organosilicon, and/or inorganic multilayers are described. Also provided is a method for monitoring film growth optically, using a polarized, light-emitting diode, a polarizing optical filter, and a photodiode. Feedback from the monitor is used to control the precursor flow to produce single layers and multilayers with prescribed anti-reflection properties.

L'invention concerne un procédé permettant de pourvoir des substrats optiques d'un revêtement anti-reflets (AR). L'épaisseur et la composition de ce revêtement sont déterminés par réduction au minimum des produits des coefficients de réflexion de Fresnel pour un revêtement présentant la sensibilité dépendante de l'angle d'incidence et de la longueur d'onde de la lumière, du système visuel humain, pour minimiser la réflectance perçue pour l'article pourvu du revêtement. Une chambre compacte est mise sous vide et remplie d'un gaz chimiquement inerte tel que de l'argon ou de l'azote. Un ou plusieurs précurseurs moléculaires sont déposés, selon un procédé de dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma, pour former un film anti-reflets. L'invention concerne également des revêtements anti-reflets monocouches à base de films de polymère fluoré d'une épaisseur contrôlée, ainsi que des revêtements multicouches organiques, organoliciés et/ou inorganiques. L'invention concerne également un procédé permettant de surveiller la croissance du film optiquement, au moyen d'une diode électroluminescente polarisée, d'un filtre optique polarisant, et d'une photodiode. L'information en retour provenant du dispositif de surveillance est utilisée pour la commande de l'écoulement de précurseur, afin de produire des revêtements monocouches et multicouches présentant les propriétés anti-reflets prescrites.

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