C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/44 (2006.01) C23C 16/30 (2006.01) C23C 16/453 (2006.01) C23C 16/40 (2006.01)
Patent
CA 2302580
A method for applying coatings to substrates (22) using combustion chemical vapor deposition by mixing together a reagent and a carrier solution to form a reagent mixture (12), igniting the reagent mixture to create a flame, or flowing the reagent mixture (12) through a plasma torch, in which the reagent is at least partially vaporized into a vapor phase, and contacting the vapor phase of the reagent to a substrate resulting in the deposition, at least in part from the vapor phase, of a coating of the reagent which can be controlled so as to have a preferred orientation on the substrate, and an apparatus to accomplish this method. This process can be used to deposit coatings of oxides, nitrides, carbides, fluorides, borides, and some elements. In addition, this process can be used to deposit thin phosphate films and coatings.
L'invention porte sur un procédé d'application de revêtements sur des substrats (22) par dépôt chimique en phase vapeur par combustion, ce procédé consistant à mélanger un réactif et une solution de support de façon à obtenir un mélange réactionnel (12), allumer ce mélange pour générer une flamme ou faire passer le mélange réactionnel (12) dans un pistolet à plasma dans lequel il se transforme au moins partiellement en phase vapeur, et mettre en contact la phase vapeur du réactif avec un substrat, ce qui entraîne au moins partiellement à partir de la phase vapeur, le dépôt d'un revêtement qui peut être régulé de façon à avoir une orientation préférée sur le substrat. L'invention porte également sur un appareil permettant de réaliser ce procédé. Le procédé peut être utilisé pour déposer des revêtements à base d'oxydes, de nitrures, de carbures, de fluorures, de borures et de certains éléments, ainsi que des revêtements et des films minces à base de phosphates.
Hunt Andrew Tye
Hwang Tzyy-Jiuan
Shao Hong
Finlayson & Singlehurst
Georgia Tech Research Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2031609