Composition and method for deburring/degreasing/cleaning...

C - Chemistry – Metallurgy – 11 – D

Patent

Rate now

  [ 0.00 ] – not rated yet Voters 0   Comments 0

Details

C11D 3/04 (2006.01) B08B 3/08 (2006.01) C11D 1/00 (2006.01) C11D 1/44 (2006.01) C11D 1/83 (2006.01) C11D 1/94 (2006.01) C11D 3/02 (2006.01) C11D 3/28 (2006.01) C11D 11/00 (2006.01) C23G 1/12 (2006.01) C23G 1/22 (2006.01) C11D 1/52 (2006.01) C11D 1/72 (2006.01)

Patent

CA 2273258

An aqueous liquid composition auxiliary for deburring/degreasing/cleaning metal parts by mass finishing has as its active ingredients: (A) at least one of (A.1) nonionic surfactant molecules that contain a moiety with the chemical formula -(CmH(2m-z)XzO)v, wherein m has the value 2, 3, or 4; z represents an integer with a value from 0 to 2m; X represents a halogen atom, and if z has a value of more than 1, may represent the same or a different halogen atom for each X; and v represents a positive integer and (A.2) anionic and amphoteric alkali stable surfactants; and (B) molecules, exclusive of molecules that are part of component (A), that include a moiety corresponding to general chemical formula (I), where R represents a monovalent aliphatic moiety with the chemical formula -CnH(2n+1-y)Fy, wherein n is an integer from 6 to 22, and y is an integer from 0 to (2n+1).

L'invention concerne une composition de liquide aqueux destinée à l'ébavurage/dégraissage/nettoyage de pièces métalliques par finition en masse, et comprenant comme ingrédients actifs: (A) au moins un élément sélectionné entre (A1) une molécule de tensioactif non ionique contenant une fraction de la formule chimique -(C¿m?H(¿2m-Z?)X¿z?O)¿V?-, dans laquelle m a une valeur égale à 2, 3, ou 4; z représente un entier présentant une valeur de 0 à 2m; X représente un atome d'halogène, et si z a une valeur supérieure à 1, il peut représenter le même atome ou un atome d'halogène différent pour chaque X; et v représente un entier positif; et (A2) des tensioactifs stables alcalins amphotères et anioniques; et (B) des molécules, exclusives de molécules faisant partie du composant (A), comprenant une fraction correspondant à la formule chimique générale (I), dans laquelle R représente une fraction aliphatique monovalente présentant la formule chimique -C¿n?H(¿2n+1-y?)F¿y?, dans laquelle n représente un entier de 6 à 22, et y représente un entier de 0 à (2n+1).

LandOfFree

Say what you really think

Search LandOfFree.com for Canadian inventors and patents. Rate them and share your experience with other people.

Rating

Composition and method for deburring/degreasing/cleaning... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.

If you have personal experience with Composition and method for deburring/degreasing/cleaning..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Composition and method for deburring/degreasing/cleaning... will most certainly appreciate the feedback.

Rate now

     

Profile ID: LFCA-PAI-O-1711630

  Search
All data on this website is collected from public sources. Our data reflects the most accurate information available at the time of publication.