C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 215/06 (2006.01) A61K 8/14 (2006.01) A61K 8/368 (2006.01) A61K 31/60 (2006.01) A61Q 19/00 (2006.01) C07C 65/40 (2006.01) C07C 211/03 (2006.01) A61K 31/615 (1990.01)
Patent
CA 2104635
Composition pour le traitement de l'acné contenant une dispersion de vésicules de lipides amphiphiles ioniques ou non- ioniques, les vésicules contenant dans la phase lipidique au moins un dérivé d'acide salicylique de formule (I): Image dans laquelle R représente un radical alkyle linéaire ou ramifié en C11- C17 ; R'1, R'2, R'3 identiques ou différents représentent un radical alkyle ou hydroxyalkyle en C1-C18, un des radicaux R'1, R'2 ou R'3 pouvant être un radical benzyle. Le dérivé de formule (I) sert à la fois de lipide chargé et d' actif anti-acné. Les dérivés de formule (1) dans lesquels lorsque R représente un radical alkyle en C13-C17, R'1, R'2, R'3 lorsqu'ils sont identiques, ne représentent pas un radical hydroxyéthyle.
Ribier Alain
Sebag Henri
Sebillotte Laurence
Simon Pascal
L'oreal
Robic
LandOfFree
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