G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 26/00 (2006.01)
Patent
CA 2581670
In one embodiment, the invention provides a method for fabricating a microelectromechanical systems device. The method comprises fabricating a first layer comprising a film having a characteristic electromechanical response, and a characteristic optical response, wherein the characteristic optical response is desirable and the characteristic electromechanical response is undesirable; and modifying the characteristic electromechanical response of the first layer by at least reducing charge build up thereon during activation of the microelectromechanical systems device.
Selon un mode de réalisation, l'invention fournit un procédé de fabrication d'un dispositif de systèmes micro électromécaniques. Le procédé comprend la fabrication d'une première couche comprenant un film présentant une réponse électromécanique caractéristique et une réponse optique caractéristique, où la réponse optique caractéristique est souhaitable et où la réponse électromécanique caractéristique n'est pas souhaitable, ainsi que la modification de la réponse électromécanique caractéristique de la première couche en réduisant au moins l'accumulation de charges sur celle-ci pendant l'activation du dispositif de systèmes micro électromécaniques.
Batey John
Chui Clarence
Kothari Manish
Miles Mark W.
Tung Ming-Hau
Idc Llc
Qualcomm Mems Technologies Inc.
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2061339