C - Chemistry – Metallurgy – 08 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
F
167/300, 402/364
C08F 220/34 (2006.01) A61K 8/81 (2006.01) A61Q 5/06 (2006.01) C08F 220/14 (2006.01)
Patent
CA 1116348
PRECIS DE LA DIVULGATION: Nouveaux copolymères caractérisés par le fait qu'ils correspondent à la formule générale suivante : Image (I) (Ia) dans laquelle : B représente Na, K, NH4 ou Image R1 et R2, identiques ou différents, représentant un atome d'hydrogène ou un radical - (X?OH, X représentant un radical alkylène, linéaire ou ramifié, ayant de 1 à 4 atomes de carbone ou un radical alkylène, linéaire ou ramifié substitué par au moins un radical hydroxyméthyle; M représente un motif d'au moins un monomère insaturé pris dans le groupe constitué par les acrylamides ou métha- crylamides substitués sur l'azote par un radical alkyle linéaire ou ramifié, les acrylates ou méthacrylates de monoalkyl éther d'éthylèneglycol ou de polyéthylène glycol et la N-vinyl- pyrrolidone; x représentant de 22 à 64 % en moles; y représentent de 1? à 72 % en moles; z représentant de 6 à 23 % en moles; et v représentant de 0 à 22 % en moles; x + y + z + v étant égal à 100 %. Ces copolymères sont utiles dans la formulation de compositions cosmétiques, notamment de laques et de lotions de mise en plis. Ils présentent une bonne compatibilité avec les agents propulseurs utilisés dans l'indus- trie des aérosols.
301544
Jacquet Bernard
Mahieu Claude
Papantoniou Christos
L'oreal
Robic Robic & Associes/associates
LandOfFree
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